SK하이닉스, 中 공장 EUV 도입에 제동… 이석희 사장 "아직 시간 많다"

이석희 SK하이닉스 사장은 미중 갈등의 여파로 중국 반도체 공장 내 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비 도입이 어려울 것이라는 일각의 우려에 대해 "앞으로 잘 대응해나갈 것"이라고 22일 밝혔다.

이 사장은 이날 서울 코엑스에서 열린 '제14회 반도체의 날' 기념식 참석 전 기자들과 만나 "(EUV를 적용한) D램 양산은 지난 7월부터 국내 공장에서 시작됐다. 아직 중국 공장에 EUV 장비를 도입까지는 시간이 많이 남았다"며 이 같이 말했다.


앞서 일각에선 SK하이닉스가 중국 우시공장의 공정 미세화를 위한 EUV 장비 도입을 계획하고 있지만 미국의 규제로 좌초될 것이라는 관측이 제기됐다. 이날 이 사장의 발언은 최근에야 국내에서 EUV를 적용한 D램 생산에 돌입한 만큼 중국 공장에 EUV를 도입하기 까지는 시간적 여유가 있다는 뜻으로 풀이된다.

이 사장은 인텔 낸드 사업부의 인수 진행 상황을 묻는 질문에는 "중국 정부와 적극 협력, 협조하고 있다"고 말했다. 현재 SK하이닉스의 인텔 낸드 사업 인수는 중국의 승인만 남은 상태다. 인수가 완료되면 낸드 시장에서 일본 키옥시아를 제치고 2위로 올라서게 된다.