삼성전자는 “늘어나는 V낸드 수요에 맞춰 평택 반도체 라인을 증설했고 파운드리 10나노 공정 캐파 확대에 투자했다”며 “플렉서블 OLED 패널 고객 수요 증가 대응을 위한 OLED 캐파 확대에 적극 투자해 지난해 전체 투자 규모는 2016년 대비 대폭 증가했다”고 설명했다.
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[속보] 삼성전자, 작년 시설투자 43조4000억 집행
이한듬 기자
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삼성전자는 지난해 시설투자에 43조4000원원을 집행했다고 31일 밝혔다. 사업별로는 반도체 27조3000억원, 디스플레이 13조5000억원 수준이다.
삼성전자는 “늘어나는 V낸드 수요에 맞춰 평택 반도체 라인을 증설했고 파운드리 10나노 공정 캐파 확대에 투자했다”며 “플렉서블 OLED 패널 고객 수요 증가 대응을 위한 OLED 캐파 확대에 적극 투자해 지난해 전체 투자 규모는 2016년 대비 대폭 증가했다”고 설명했다.
삼성전자는 “늘어나는 V낸드 수요에 맞춰 평택 반도체 라인을 증설했고 파운드리 10나노 공정 캐파 확대에 투자했다”며 “플렉서블 OLED 패널 고객 수요 증가 대응을 위한 OLED 캐파 확대에 적극 투자해 지난해 전체 투자 규모는 2016년 대비 대폭 증가했다”고 설명했다.